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Öffentliche Ausschreibungen

Titel : DE-Geesthacht - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Dokument-Nr. ( ID / ND ) : 2019061009210957709 / 267776-2019
Veröffentlicht :
10.06.2019
Angebotsabgabe bis :
08.07.2019
Dokumententyp : Ausschreibung
Vertragstyp : Lieferauftrag
Verfahrensart : Offenes Verfahren
Unterteilung des Auftrags : Gesamtangebot
Zuschlagkriterien : Wirtschaftlichstes Angebot
Produkt-Codes :
38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
DE-Geesthacht: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

2019/S 110/2019 267776

Auftragsbekanntmachung

Lieferauftrag
Legal Basis:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber
I.1)Name und Adressen
Helmholtz-Zentrum Geesthacht
Max-Planck-Str. 1
Geesthacht
21502
Deutschland
Kontaktstelle(n): Einkauf
E-Mail: [1]einkauf@hzg.de
Fax: +49 4152-871750
NUTS-Code: DEF06

Internet-Adresse(n):

Hauptadresse: [2]www.hzg.de
I.2)Informationen zur gemeinsamen Beschaffung
I.3)Kommunikation
Die Auftragsunterlagen stehen für einen uneingeschränkten und
vollständigen direkten Zugang gebührenfrei zur Verfügung unter:
[3]https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQ
DNG1/documents
Weitere Auskünfte erteilen/erteilt die oben genannten Kontaktstellen
Angebote oder Teilnahmeanträge sind einzureichen elektronisch via:
[4]https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQ
DNG1
I.4)Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: Forschungseinrichtung
I.5)Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Werkstoff- und Küstenforschung

Abschnitt II: Gegenstand
II.1)Umfang der Beschaffung
II.1.1)Bezeichnung des Auftrags:

System für reaktives Ionenätzen
Referenznummer der Bekanntmachung: 10089068
II.1.2)CPV-Code Hauptteil
38000000
II.1.3)Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4)Kurze Beschreibung:

System zum Ionenätzen (RIE) mit Plasmaquelle

Bei dem zu beschaffenden System muss es sich um ein erprobtes System
handeln, da die Ätzprozesse für Forschungszwecke benötigt werden. Im
Preis soll der Besuch eines Prozeßspezialisten (mind 3 Tage vor Ort)
zum Prozessnachweis und zum Training enthalten sein.

Darüber hinaus wird die kostenlose Prozessunterstützung für mind. 20
Jahre gefordert.

Das HZG behält sich das Recht vor, im Rahmen der Angebotsauswertung
sich das Gerät bzw. ein vergleichbares Gerät vorführen zu lassen (z.B.
als Demo Gerät oder bei einem andren Kunden) um die geforderten mindest
Anforderungen zu überprüfen.

Der Platzbedarf des Systems soll kleiner als 80 cm x 95 cm sein (ohne
Vorpumpen, PC, etc).
II.1.5)Geschätzter Gesamtwert
II.1.6)Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.2)Beschreibung
II.2.1)Bezeichnung des Auftrags:
II.2.2)Weitere(r) CPV-Code(s)
II.2.3)Erfüllungsort
NUTS-Code: DEF06
Hauptort der Ausführung:

Helmholtz-Zentrum Geesthacht

Max-Planck-Str. 1

21502 Geesthacht
II.2.4)Beschreibung der Beschaffung:

Nähere Informationen gemäß Leitungsbeschreibung

Die Prozesskammer muss aus einem Aluminiumblock gefräst und ohne
unnötigen Dichtungen gefertigt sein.

Das Design des Gesamtsystems (inkl. ICP-Quelle und Pumpsystem) muss
radialsymmetrisch sein, um beste Gleichmäßigkeit über einen großen
Parameterbereich zu gewährleisten.

Die Prozesskammer muss über Flansche für das Pumpsystem (min 100 mm)
und ein Sichtfenster (min 40 mm) verfügen. Es muss zusätzlich
mindestens ein 40 mm Flansch vorhanden sein (blindgeflanscht).

Die Kühlung der Substratelektrode muss durch flüssigen Stickstoff
erfolgen.

Die Kühlung/Heizung der Substratelektrode muss mindestens in einem
Temperaturbereich von 150 ^oC bis +400 ^oC möglich sein.

Die Substratelektrode muss einen Durchmesser von mindestens 240 mm
aufweisen.

Eine Helium Rückseiten-Kühlung der Substratelektrode (mechanische
Klemmung) zur Verbesserung des thermischen Kontaktes muss vorhanden
sein. Der Heliumfluss muss gemessen werden und auf dem PC zur
Anlagensteuerung angezeigt werden. Die Steuerung des Heliumflusses muss
über den Druck als Regelparameter erfolgen.

Halter/Klemmringe für verschiedene Wafer-Größen (8", 6", 4") müssen
mitgeliefert werden. Halter für kleinere bzw. unregelmäßig geformte
Proben sind optional anzubieten.

Die Temperatur ist als Prozessparameter in die Steuerung einzugeben.

Die Temperatur der Prozesse muss von -150 ^oC bis + 400 ^o C möglich
sein., Kühlung muss durch LN2 möglich sein. Eine elektrische Heizung
muss integriert sein. Hierzu sind bitte mindestens 20 Referenzen
anzugeben.

Die Systemsteuerung soll durch Speicherprogrammierbare Steuerung (SPS)
mit digitalen und analogen I/O erfolgen.

Ein Datenlogging muss mit einer Geschwindigkeit von mindestens 250 ms
erfolgen.

Es müssen Prozessschritte schneller oder gleich 10 ms möglich sein.

Eine LAN Anbindung zur Anlagensteuerung muss möglich sein.

Eine automatische Überwachung des Prozessablaufs mit vorgebbaren
Grenzwerten für die Parameter muss möglich sein.

Eine Möglichkeit zur manuellen Steuerung des Prozesses am Computer muss
möglich sein.

Das System muss automatische Lecktests und eine automatische MFC
Kalibrierung durchführen können.

Das System muss über ein Userlevel Management (mindestens drei Stufen)
verfügen.

Beim Betrieb des Systems mit optischer Emission zur Kontrolle muss über
ein PC gesteuertes System das ganze Spektrum von 200 nm bis 800 nm
(gleichzeitig) aufgezeichnet werden können. Die Kontrolle ist in die
Systemsoftware zu integrieren.

Das RIE-System muss ohne mechanische Änderungen im RIE Mode und im ICP
Mode betrieben werden können (ohne Umbau).

Das RIE-System muss über die notwendigen Anschlüsse/Flansche verfügen,
um eine Endpunkterkennung mittels optischer Emission und
Laserinterferometrie (incl. x/y-Tisch und CCD Kamera) nachzurüsten.

Substratelektrode:

Das System muss über einen 13,56 MHz Generator mit automatischer HF
Abstimmung verfügen.

Die automatische Abstimmeinheit muss direkt an die Quelle gekoppelt
sein (keine Kabel).

Die automatische Abstimmeinheit (reflektierte Leistung muss < 2 % der
Vorwärtsleistung betragen, abstimmbar möglichst über den kompletten
Bereich) muss über folgende Anlagensoftware-unterstützte Modi verfügen:

die Kapazitäten bleiben in der letzten Position beim Wechsel auf
einen neuen Prozessschritt (Arbeitsmodus 1)

die Kapazitäten starten von einer festen, vorwählbaren Position
(Arbeitsmodus 2)

manuelle Einstellung der Kapazitätspositionen (Arbeitsmodus 3)

Die Leistung des Systems soll 300W (bei 13,56 MHz) betragen.

Das System muss über ein eigenes Datenlogging der Plasma- und
Abstimmeinheit verfügen.

Die Plasmaquelle soll über Power/Bias Steuerung verfügen.

Die Startpositionen aller Kapazitäten der Matching Einheiten müssen
unabhängig für jeden Prozessschritt gewählt werden können (auch ein
voll manueller Betrieb muss möglich sein). Sie müssen auch im
Datalogging erfasst werden. Das System muss für 200 mm Wafer homogen
arbeiten.
II.2.5)Zuschlagskriterien
Die nachstehenden Kriterien
Qualitätskriterium - Name: Wertungstabelle / Gewichtung: 50 %
Preis - Gewichtung: 50 %
II.2.6)Geschätzter Wert
II.2.7)Laufzeit des Vertrags, der Rahmenvereinbarung oder des
dynamischen Beschaffungssystems
Beginn: 16/12/2019
Dieser Auftrag kann verlängert werden: nein
II.2.10)Angaben über Varianten/Alternativangebote
Varianten/Alternativangebote sind zulässig: nein
II.2.11)Angaben zu Optionen
Optionen: nein
II.2.12)Angaben zu elektronischen Katalogen
II.2.13)Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm,
das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14)Zusätzliche Angaben

Abschnitt III: Rechtliche, wirtschaftliche, finanzielle und technische
Angaben
III.1)Teilnahmebedingungen
III.1.1)Befähigung zur Berufsausübung einschließlich Auflagen
hinsichtlich der Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister
Auflistung und kurze Beschreibung der Bedingungen:

Eigenerklärung zur Eintragung ins Handelsregister:

Den Nachweis über die Eintragung in das Handelsregister führen wir über
die folgenden Angaben:

Registerführendes Amtsgericht:

Handelsregisternummer:

oder vergleichbare Eintragung (EU):
III.1.2)Wirtschaftliche und finanzielle Leistungsfähigkeit
Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:

1) Erklärung zum Umsatz des Unternehmens in den Jahren 2016 bis 2018:

Gesamtumsatz des Unternehmens sowie spezifischer Umsatz bezüglich der
besonderen Leistungsart, die Gegenstand dieser Vergabe ist;

2) Nachweis einer Haftpflichtversicherung mit Angabe der Deckungssumme
je Versicherungsfall für Personen-, Sach- und Vermögensschäden (zum
Zeitpunkt des Schlusstermins für die Einreichung der Teilnahmeanträge
nicht älter als sechs Monate).
III.1.3)Technische und berufliche Leistungsfähigkeit
Auflistung und kurze Beschreibung der Eignungskriterien:

Es sind drei vergleichbare Leistungen, jeweils unter Angabe des
Auftraggebers, des Auftragsgegenstandes, der Leistungszeit, der
Rechnungssumme in Euro sowie eines Ansprechpartners, anzugeben.

2) Angabe der durchschnittlichen Anzahl des beschäftigten Personals in
den Jahren 2017 und 2018;

3) Einzureichender Nachweis: EG Konformitätserklärung;

4) Beschreibung der Maßnahmen des Unternehmens zur Gewährleistung der
Qualität von Produkt und Auftragsabwicklung.
III.1.5)Angaben zu vorbehaltenen Aufträgen
III.2)Bedingungen für den Auftrag
III.2.2)Bedingungen für die Ausführung des Auftrags:
III.2.3)Für die Ausführung des Auftrags verantwortliches Personal

Abschnitt IV: Verfahren
IV.1)Beschreibung
IV.1.1)Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3)Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen
Beschaffungssystem
IV.1.4)Angaben zur Verringerung der Zahl der Wirtschaftsteilnehmer oder
Lösungen im Laufe der Verhandlung bzw. des Dialogs
IV.1.6)Angaben zur elektronischen Auktion
IV.1.8)Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2)Verwaltungsangaben
IV.2.1)Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
IV.2.2)Schlusstermin für den Eingang der Angebote oder Teilnahmeanträge
Tag: 08/07/2019
Ortszeit: 13:00
IV.2.3)Voraussichtlicher Tag der Absendung der Aufforderungen zur
Angebotsabgabe bzw. zur Teilnahme an ausgewählte Bewerber
IV.2.4)Sprache(n), in der (denen) Angebote oder Teilnahmeanträge
eingereicht werden können:
Deutsch
IV.2.6)Bindefrist des Angebots
Das Angebot muss gültig bleiben bis: 31/08/2019
IV.2.7)Bedingungen für die Öffnung der Angebote
Tag: 08/07/2019
Ortszeit: 13:00

Abschnitt VI: Weitere Angaben
VI.1)Angaben zur Wiederkehr des Auftrags
Dies ist ein wiederkehrender Auftrag: nein
VI.2)Angaben zu elektronischen Arbeitsabläufen
VI.3)Zusätzliche Angaben:

Bekanntmachungs-ID: CXP9YCQDNG1
VI.4)Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1)Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Villemomblerstr. 76
Bonn
53123
Deutschland
Telefon: +49 2289499-0
Fax: +49 2289499-163
VI.4.2)Zuständige Stelle für Schlichtungsverfahren
Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Villemomblerstr. 76
Bonn
53123
Deutschland
Telefon: +49 2289499-0
Fax: +49 2289499-163
VI.4.3)Einlegung von Rechtsbehelfen
Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:

Die Auftraggeberin weist ausdrücklich auf die Rügeobliegenheiten der
Unternehmen/Bewerber/Bieter sowie auf die Präklusionsregelungen gemäß §
107 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1-4 GWB hinsichtlich der Behauptung von Verstößen
gegen die Bestimmungen über das Vergabeverfahren hin. § 107 Abs. 3 Satz
1 GWB lautet: der Antrag (auf Nachprüfung) ist unzulässig, soweit der
Antragsteller den gerügten Verstoß gegen Vergabevorschriften im
Vergabeverfahren erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht
unverzüglich gerügt hat.
VI.4.4)Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen
erteilt
Vergabekammer des Bundes beim Bundeskartellamt
Villemomblerstr. 76
Bonn
53123
Deutschland
Telefon: +49 2289499-0
Fax: +49 2289499-163
VI.5)Tag der Absendung dieser Bekanntmachung:
05/06/2019

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1. mailto:einkauf@hzg.de?subject=TED
2. http://www.hzg.de/
3. https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQDNG1/documents
4. https://vergabemarktplatz.brandenburg.de/VMPSatellite/notice/CXP9YCQDNG1

 
 
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